此前在公布了2025财年第二财季（截至2024年7月28日）财报时，英伟达创始人兼CEO黄仁勋先生承认了前一段时间的媒体的报道，Blackwell架构产品生产上出现了一些问题，导致较低的良品率，从而影响了出货。英伟达在一份声明中表示，对Blackwell架构GPU的掩膜进行了改动，以提高产量。

近日有网友透露，英伟达Blackwell架构产品的生产问题不仅仅影响到数据中心产品，也波及到了即将发布的新一代游戏显卡，相关的芯片也需要修改掩膜设计并重新流片。据了解，英伟达共修改了八款4nm产品的设计。按照目前数据中心产品延后出货的情况来看，GeForce RTX 50系列的发布和上市时间表可能也会相应延期，传闻发布时间已经从今年第四季度延至CES 2025。

此外，GeForce RTX 50系列显卡的功耗可能也会有所增加，越高端的型号，增加的部分越明显，不同型号的增幅在20W到50W之间。不过距离新显卡的发布还有至少几个月的时间，不排除英伟达在最后阶段还会进行调整，在过去这样的事情也曾发生过。

根据之前的说法，Blackwell架构GPU是首批采用台积电CoWoS-L封装的产品，其使用RDL中间层与LSI桥接器连接小芯片，可实现约10Tb/s的数据传输速率。由于GPU芯片、RDL中间层、LSI桥接器、以及基板之间的热膨胀系数（CTE）不匹配，容易导致翘曲和系统故障。为此英伟达不得不重新设计GPU芯片的顶层金属层和凸块，以提高良品率。